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1200℃單溫區(qū)三通道... 1200℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計(jì)組成。1200℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)管式爐由精密...
全自動(dòng)CVD滑軌爐全自動(dòng)CVD滑軌爐系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動(dòng)并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫；四路質(zhì)...
1200℃三溫區(qū)三通道... 1200℃三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計(jì)組成。管式爐三個(gè)溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨(dú)立控溫，通過調(diào)...
1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)自... 1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)自動(dòng)進(jìn)出料CVD系統(tǒng)安裝有投料器和收料罐。1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)自動(dòng)進(jìn)出料CVD系統(tǒng)投料器可以以額定速...
兩通道CVD系統(tǒng) 本CVD系統(tǒng)帶水冷法蘭雙路流量計(jì)并配有雙極旋片泵、水冷機(jī)、數(shù)字真空計(jì)且該CVD系統(tǒng)可抽真空、通氣氛用于各種CVD實(shí)驗(yàn)。
1200℃三通道CVD... 該套CVD系統(tǒng)主要由：材料加熱、真空獲取、氣體測(cè)量和等離子發(fā)生器四大部分構(gòu)成?？梢詽M足日常的大多數(shù)CVD實(shí)驗(yàn)和各種科研要...
三溫區(qū)1600 CVD... 該三溫區(qū)1600 CVD系統(tǒng)主要用于真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)性燒結(jié)、真空鍍膜各種材料煅燒、需要溫度梯度的各種CVD實(shí)驗(yàn)
立式三溫區(qū)管式爐立式三溫區(qū)管式爐適用于精密陶瓷等新材料的熱處理
超聲波霧化立式單溫區(qū)管... 超聲波霧化立式單溫區(qū)管式爐是一款多功能的合成系統(tǒng)，針對(duì)于合成各種納米結(jié)構(gòu)氧化物以及納米材料的復(fù)合包覆工藝。此款儀器有三個(gè)...
真空立式淬火爐真空立式淬火爐主體為開啟式立式管式爐，爐管上法蘭裝有吊鉤及爐塞，可手動(dòng)松開吊鉤使懸掛的樣品落下；下法蘭與密封的液體容器通...
高真空立式淬火爐真空立式淬火爐CY-O1200-Φ100-400-V-T-CH是一款立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個(gè)密封的液體容器用于...
立式流化床管式爐該款立式流化床管式爐是一款流化床立式CVD系統(tǒng)，專門針對(duì)粉末實(shí)驗(yàn)。立式流化床管式爐儀器采用先進(jìn)的PID智能控溫，控溫精度...
立式管式爐立式管式爐采用高質(zhì)量電爐絲作為加熱元件，加熱溫度可達(dá)1200℃，石英爐管管徑為50mm。若客戶有需要，可聯(lián)系技術(shù)人員定制...
1700度立式流化床管... CY-V1700-100IT硫化爐是一款流化床立式CVD系統(tǒng)，專門針對(duì)粉末實(shí)驗(yàn)，爐管為高純剛玉管，爐管內(nèi)部嵌有一個(gè)微孔陶...
1200℃開啟式單溫區(qū)... 1200℃開啟式單溫區(qū)立式管式爐，采用高純石英制作爐管。加熱溫區(qū)：440mm；恒溫區(qū)200mm；爐管直徑有：50mm，6...
1200℃開啟式雙溫區(qū)... 1200℃開啟式雙溫區(qū)立式管式爐，采用高純石英制作爐管。加熱溫區(qū)：220mm+220mm；恒溫區(qū)100mm+100mm；...
1200℃開啟式三溫區(qū)... 1200℃開啟式三溫區(qū)立式管式爐，采用高純石英制作爐管。加熱溫區(qū)：220mm+440mm；恒溫區(qū)100mm+200mm+...
1100℃16通道管式... 16通道管式爐針對(duì)于高通量樣品燒結(jié)，退火和淬火使用，其*高溫度可達(dá)1100℃。每個(gè)加熱模塊都由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，每個(gè)爐...
1200℃管式爐本款微型真空管式爐*高溫度可達(dá)1200℃，使用高純石英做真空爐管，體積較小，使用方便、簡(jiǎn)單；特別適合放置到真空手套箱里來...
管式爐該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實(shí)驗(yàn)管式爐，廣泛用于各種反應(yīng)溫度在120...

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