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產品詳情
簡單介紹：
全自動CVD滑軌爐系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；四路質子流量計能夠準確控制系統的供氣；全自動CVD滑軌爐真空泵可實現對管式爐快速抽真空。
詳情介紹：
全自動CVD滑軌爐設備操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環境下，得到快速的降溫速率。
適用于高校、科研院所、工礦企業做石墨烯的生長、高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火，尤其適合需要快速升降溫的CVD試驗。
全自動CVD滑軌爐技術參數：
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項目 |
明細 |
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供電電壓 |
AC220V，50Hz |
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整機功率 |
5KW |
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工作溫度 |
≤1100℃ |
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加熱速率 |
建議10℃/min |
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爐管尺寸 |
O.D.50mm-220mm-220mm（加熱區）-1200mm管長 |
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控溫精度 |
0.1℃ |
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溫區 |
雙溫區 |
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混氣系統 |
4路質子流量計：100sccm1個；200sccm1個；500sccm2個 |
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真空泵 |
雙極旋片真空泵 |
