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- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
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R-PECVD?真空旋... R-PECVD真空旋轉等離子增強CVD設備由旋轉及傾斜機構、單溫區(qū)管式爐、等離子發(fā)生機構、質量流量計供氣系統(tǒng)、高真空分子...
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雙溫區(qū)CVD系統(tǒng) 雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)由1200℃雙溫區(qū)管式爐、雙通道質量流量計和低噪音雙極旋片真空泵組成。雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)管式爐的兩個溫區(qū)分...
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1500℃單溫區(qū)3路質... 1500℃單溫區(qū)3路質量流量計高真空CVD系統(tǒng)由1500℃單溫區(qū)管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密...
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1500℃單溫區(qū)3路質... 1500℃單溫區(qū)3路質量供氣低真空CVD系統(tǒng)由1500℃單溫區(qū)管式爐、三路質量流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控...
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1500℃單溫區(qū)3路浮... 1500℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由1500℃單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控...
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1500℃單溫區(qū)3路浮... 1500℃單溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由1500℃單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控...
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1200℃三溫區(qū)3路質... 1200℃三溫區(qū)3路質量供氣高真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密...
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1200℃三溫區(qū)3路質... 1200℃三溫區(qū)3路質量供氣低真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路質量流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密...
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1200℃雙溫區(qū)3路質... 1200℃雙溫區(qū)3路質量供氣高真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密...
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1200℃雙溫區(qū)3路質... 1200℃雙溫區(qū)3路質量供氣低真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐、三路質量流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密...
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1200℃雙溫區(qū)3路浮... 1200℃雙溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫...
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1200℃雙溫區(qū)3路浮... 1200℃雙溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密...
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1200℃三溫區(qū)3路浮... 1200℃三溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密...
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1200℃三溫區(qū)3路浮... 1200℃三溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密...
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1700℃兩路浮子供氣... 該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐。爐管材質采用高純氧化鋁,*高可在1650℃的高溫工作。為...
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1200℃三路供氣低真... 1200℃三路供氣低真空度旋轉CVD系統(tǒng)采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為風冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0-15°）任意可調。...
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1200℃單溫區(qū)3路質... 1200℃單溫區(qū)3路質量供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵租組成。管式爐由精密控溫儀表進行...
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1200℃單溫區(qū)3路質... 1200℃單溫區(qū)3路質量供氣低真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進行...
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1200℃單溫區(qū)3路浮... 1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控溫儀表進行...
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1200℃單溫區(qū)3路浮... 1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進行...
