- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
CY-MSP300S-3RF三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)為我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，設(shè)備可選配直流電源，和射頻電源，功率從500W-1000W不等，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。
設(shè)備經(jīng)過(guò)緊湊化設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了體積與性能的平衡，造型美觀(guān)功能齊全。整機(jī)均采用觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡(jiǎn)單易上手，是一款實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備。
技術(shù)參數(shù)：
|
項(xiàng)目 |
明細(xì) |
|
|
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-MSH300-III-RFRFRF-SS |
|
|
供電電壓 |
AC220V，50Hz |
|
|
整機(jī)功率 |
4KW |
|
|
系統(tǒng)真空 |
≦5×10-4Pa |
|
|
樣品臺(tái) |
尺寸 |
φ140mm |
|
控溫精度 |
±1℃ |
|
|
加熱溫度 |
*高500℃ |
|
|
轉(zhuǎn)速 |
1-20rpm可調(diào) |
|
|
磁控濺射頭 |
數(shù)量 |
2” x3 （1”,2”可選） |
|
水冷機(jī)規(guī)格 |
10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) |
|
|
冷卻方式 |
水冷 |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
Dia.300mm×300mm |
|
觀(guān)察窗口 |
φ100mm |
|
|
開(kāi)啟方式 |
上頂開(kāi)式 |
|
|
腔體材料 |
不銹鋼 |
|
|
質(zhì)量流量計(jì) |
2路；量程100sccm；100sccm（可根據(jù)客戶(hù)需要定制多路氣路） |
|
|
真空系統(tǒng)
|
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-GZK103-A |
|
抽氣接口 |
CF160 |
|
|
分子泵 |
CY-600 |
|
|
排氣接口 |
KF40 |
|
|
前極泵 |
旋片泵 |
|
|
真空測(cè)量 |
復(fù)合真空計(jì) |
|
|
極限真空 |
1.0E-5Pa |
|
|
供電電源 |
AC;220V 50/60Hz |
|
|
抽氣速率 |
分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達(dá)： 1.0E-3Pa |
|
|
電源配置 |
數(shù)量 |
射頻電源 x3 |
|
*大輸出功率 |
射頻電源500W |
|
|
膜厚測(cè)量 |
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? |
|
|
控制系統(tǒng) |
CYKY自研專(zhuān)業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) |
|
|
整機(jī)尺寸 |
600mm X 650mm X 1280mm |
|
|
整機(jī)重量 |
300kg |
|
