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1500單溫區(qū)φ50真... 該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各種反應溫度較高的C...
1500℃單溫區(qū)φ60... 成越1500℃單溫區(qū)φ60管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛...
1500℃單溫區(qū)φ80... 該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各種反應溫度較高的C...
小型旋轉管式爐單溫區(qū)旋轉管式爐，可實現(xiàn)在氣氛保護的環(huán)境下對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾。設備采用摩擦傳動，無需額外固定，爐管拆卸...
雙溫區(qū)滑動旋轉管式爐雙溫區(qū)滑動旋轉管式爐通過機械傳動控制工作管能360°不間斷旋轉，爐體在支架上能夠前后滑動，可以實現(xiàn)快速升降溫，雙溫區(qū)滑動...
200mm大管徑回轉窯... 200mm大管徑回轉窯爐配有投料機構和旋轉機構，能夠保證反應連續(xù)均勻的發(fā)生，200mm大管徑回轉窯爐廣泛應用于鋰電池材料...
自動進料旋轉管式爐該款管式爐CY-O1200-R100IT-AF為帶有自動進料和收集設備的可旋轉管式爐，采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤6...
1200℃三溫區(qū)旋轉管... 1200℃三溫區(qū)旋轉管式爐，采用高純石英制作變徑石英管，專為粉末處理設計。旋轉裝置采用摩擦傳動，傾角（0-15°）任意可...
1600雙溫區(qū)真空旋轉... 鄭州成越科儀真空旋轉管式爐采用7英寸液晶屏做控制系統(tǒng)，具有簡單易學，操作方便，智能化程度高。鄭州成越科儀真空旋轉管式爐主...
1200℃單溫區(qū)旋轉管... 1200℃開啟式單溫區(qū)旋轉管式爐，采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為半導體致冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0~15°）任意可調。...
1200℃雙溫區(qū)旋轉管... 1200℃開啟式雙溫區(qū)旋轉管式爐，采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為半導體致冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0~15°）任意可調。...
1200℃三溫區(qū)旋轉管... 1200℃開啟式雙溫區(qū)旋轉管式爐，采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為半導體致冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0~15°）任意可調。...
PECVD化學氣相沉積... PECVD化學氣相沉積系統(tǒng)采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低...
PEALD等離子增強原... 等離子增強原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)是一種先進的薄膜沉積技術，結合了等離子體和原子層沉積（ALD）的優(yōu)點，以實現(xiàn)更高的...
等離子增強化學氣相沉積... 化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，基本溫度低，沉積速率快，在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉...
等離子體增強型化學氣相... 化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度。適用...
CVD化學氣相沉積系統(tǒng) CVD氣相沉積系統(tǒng)廣泛應用于材料科學和工程領域，用于制備各種功能性薄膜，如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。...
PECVD氣相沉積 PECVD氣相沉積在超大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用
雙溫區(qū)CVD化學氣相沉... CVD（化學氣相沉積）氣相沉積系統(tǒng)是一種常用的薄膜制備技術，通過在高溫下將氣體反應物質與基底表面反應，形成薄膜
三溫區(qū)PECVD石墨烯... 三溫區(qū)PECVD廣泛用于石墨烯制備，顆粒包覆等科學實驗上

豫公網安備 41019702002438號

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